天准为掩模生产过程中的测量提供高精度、高重复性系统，适用产品包括但不限于COG和PSM。
针对掩模来料测量，天准提供长距离工作物镜。测量包括掩模版上CD的分布，同时系统提供可见光和紫外光照明，均可用于反射和透射模式。紫外光照明可用于测量最小300nm的特征尺寸，3sigma重复性通常在纳米范围内。
主要特点
Mask CD测量
最大支持14寸掩模以及定制形状
可配置可见光、紫外光，支持穿透和反射光
SECS/GEM
长期维护成本低，稳定可靠
主要特点
Mask CD测量
最大支持6寸掩模
可配置可见光、紫外光，支持穿透和反射光
SECS/GEM
长期维护成本低，稳定可靠
主要特点
Mask膜厚，CD测量
可配置可见光、紫外光、红外光
SECS/GEM
长期维护成本低，稳定可靠
